昨年インテルを退任したゲルシンガー氏の言葉からは、その悔しさが滲みでている。「Today is, of course, bittersweet as this company has been my life for the bulk of my working career.（この会社は私の仕事人生の大部分を支えてきたので、今日という日はほろ苦い気持ちだ）」（インテルプレスリリース）。
その才能を見込まれ、ゲルシンガー氏は高校卒業後にインテルに入社し、初めての最高技術責任者（CTO）に就任した。その後、インテルを離れたが、微細化技術で台湾積体電路製造有限公司（TSMC）やサムスンに後れをとり、苦境にあった状況を救うべく、2021年、請われてインテルに復帰した。
「5N4Y」という計画で、４年間で５つのノード（半導体の大きさを示す指標）の微細化を進めるという目標を掲げ、今年は最終形である18Ａ（1.8nm）を出荷する段階まで持ってきた。
一方、足枷となったのが「IDM2.0」（Integrated Device Manufacturer＝統合型デバイス製造）だ。この計画でファウンドリー（受託製造）の世界トップであるTSMCに対抗すべく、同事業の強化に乗り出したが、赤字が続いた。特に、同事業の昨年７～９月の第３四半期決算では売上高43億5200万ドルに対し、営業損益58億4400万ドルの赤字となった。さらに、24年は第３四半期までに111億4800万ドル（約1.7兆円）の赤字が積み上がった。
投資もかさんだ。例えば、微細化に欠かせない露光装置で世界最先端のオランダ・ASML（ASML Holding N.V.）からHNA（高開口数）0.55のEUV（極端紫外線）装置を導入した。この装置は１台400億円以上と非常に高価。ただし、微細化技術で世界最先端を行くには必要な投資だった。
だが、株主が納得しなかった。製造ラインを整備することも大事だが、短期的成果を求める株主にとっては分かりやすく、売れる商品を製造してほしいという思いが強かったのだろう。そんなインテルの株主の心に火をつけたのが、米エヌビディアだ。
